有机废气处理直接燃烧法和催化燃烧法

格林斯达环保公司主营有机废气处理，无机废气处理和工业污水处理，其中有机废气处理包括涂装车间废气处理、电子废气处理、半导体废气处理、涂装废气处理、涂装车间废气处理、喷涂废气处理、喷涂车间废气处理、喷漆废气处理等等。

直接燃烧法

利用燃气或燃油等辅助燃料燃烧，工业废气处理 活性炭，将混合气体加热，使有害物质在高温作用下分解为无害物质；本法工艺简单、投资小，适用于高浓度、小风量的废气，但对安全技术、操作要求较高。

催化燃烧法

把废气加热经催化燃烧转化成无害无臭的和水；本法起燃温度低、节能、净化率高、操作方便、占地面积少、投资较大，适用于高温或高浓度的有机废气。

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工艺原理

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工艺原理

psa 技术是利用气体组分在固体吸附材料上吸附特性的差异 ，通过周期性的压力变化过程实现气体的分离与净化。psa 技术是一种物理吸附法。本论文中所介绍的工艺采用沸石分子筛作为吸附剂(吸附容量大、 吸附选择性强) ，在常温及一定压力条件下 ，可把有机废气中吸附在沸石分子筛上 ，没有被吸附的气体进入下一个工段。吸附有机废气以后的吸附剂通过抽真空把有机物解吸 ，使吸附剂再生。再生后的吸附剂重新去吸附废气中的有机物 ，以此循环往复。生产过程中采用 4 个相同的吸附塔在一台计算机的控制下 ，工业废气处理 公司，通过调节阀变向不断改变气流的流向改变各塔的工作阶段 ，来实现各塔的吸附与再生交替进行。psa 装置采用四塔二均式工艺 ，该工艺的每个吸附塔必须经过吸附、 一均降、 顺向放压、 二均降、 逆向放压、 冲洗、 二均升、 一均升和终充九个步骤;四个塔步骤相互错开 ，组成一个吸附- 解吸循环。

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光催化降解技术

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光催化降解技术

纳米tio2光是一种光触媒，光触媒就是使用光的能量在某种媒介上使有害气体发生分解反应。采用tio2半导体纳米材料及紫外光，其工作原理是通过光催化氧化反应净化消除挥发性有机气体。所谓光催化氧化反应，就是让特定波长的光照射纳米tio2半导体材料，工业废气处理，可以激发出/电子-空穴0对(一种高能粒子)，工业废气处理办法，这种/电子-空穴0和周围的水、氧气发生反应后，就产生了具有极强氧化能力的自由基活性物质，可将气体中的、、气等有害污染物氧化、分解成co2、h2o等没有毒没有味的物质。故不存在吸附饱和和二次污染问题。光催化净化法自1988年国际首例光催化净化装置以来，该方法只应用于消除半封闭或封闭空间微量有害气体的除臭或杀菌，头次应用光催化净化法治理废气污染是在解决珠江三角洲某饲料厂的恶臭问题。光催化降解有机污染物比较完全，终生成co2和无机物。因此，光催化净化技术被认为是具有广阔应用前景的新净化技术。

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